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Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung. [EU] Note: 2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.

Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate [EU] Equipment for the vapour deposition of elements or compounds on heated filament substrates

Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern [EU] Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres

Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern [EU] Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres

Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) [EU] Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU] Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU] Chemical warfare CW (for lasers)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU] EB-PVD electron beam physical vapour deposition EBU

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU] Chemical Vapour Deposition (CVD)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU] Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.

Die Analyse basiert auf Luftproben, die durch eine semi-permeable Membran in eine Ionisationskammer geleitet werden. Dort gibt eine Ionisierungsquelle Betateilchen ab, wodurch in der Gasphase Ionen entstehen. [EU] The analysis is based on samples of air which pass through a semi-permeable membrane and enter an ionisation chamber where an ionisation source emits beta particles resulting in ion formation in the gaseous phase.

Die Anordnung sollte so ausgelegt werden, dass während der Messung die Temperatur sowohl der Prüflösung wie auch die der sich über deren Oberfläche befindlichen Gasphase konstant bleiben und die Probe nicht verdampfen kann. [EU] It shall be designed so that during the measurement the temperature of the test solution liquid and the gas phase above its surface remains constant and that the sample cannot evaporate.

Die Herbeiführung der Sättigung in der Gasphase ist von entscheidender Bedeutung. [EU] Achieving saturation in the gas phase is of critical importance.

Die Sättigung der Gasphase kann eine beträchtliche Kontaktzeit und entsprechend verhältnismäßig geringe Gasdurchflüsse erfordern (25). [EU] Saturation of the gas phase may require considerable contact time and hence quite low gas flow rates (25).

Die Werte beziehen sich auf die Summe der Metalle in den Abgasen sowohl in der festen Phase als auch in der Gasphase. [EU] The levels refer to the sum of metals present in the flue-gases in both solid and gaseous phases.

Electron beam physical vapour deposition (Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen) [EU] Electron beam physical vapour deposition

Erfolgt die Exposition hauptsächlich über die Gasphase, so kann es zweckmäßiger sein, Inhalationsversuche anstelle oraler Versuche durchzuführen. [EU] In cases where exposure is mainly by the gas phase, it can be more appropriate to perform inhalation studies instead of oral studies.

Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition) [EU] Chemical vapour deposition (CVD) production equipment

Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: [EU] Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:

ist elementarer Quecksilberdampf (Hg0) und reaktives gasförmiges Quecksilber, d. h. wasserlösliche Quecksilberverbindungen mit ausreichend hohem Dampfdruck, um in der Gasphase zu existieren. [EU] means elemental mercury vapour (Hg0) and reactive gaseous mercury, i.e. water-soluble mercury species with sufficiently high vapour pressure to exist in the gas phase.

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The example sentences [G] were kindly provided by the Goethe Institute.
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