CvD : Dictionary / Wörterbuch (BEOLINGUS, TU Chemnitz)

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	Anmerkung 1:Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten. [EU]	1:CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
	Anmerkung 1:Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten. [EU]	Includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
	Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Halbleiterscheiben (wafers) (CVD-Verfahren) [EU]	Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers
	Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (CVD-Verfahren) [EU]	Apparatus for chemical vapour deposition on LCD substrates
	Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) [EU]	Apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern [EU]	Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern [EU]	Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Plasma enhanced chemical vapour deposition (CVD) equipment as follows:
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Plasma enhanced CVD equipment, as follows:
	Bei der wird (anstelle des herkömmlichen Verfahrens der plasmaunterstützten CVD-Abscheidung, des sog. PECVD-Verfahrens) ein innovatives Verfahren [...] verwendet. [EU]	The [...] uses an innovative [...] (instead of the traditional 'plasma enhanced chemical vapour deposition', PECVD process).
	Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) [EU]	Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU]	Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]	Chemical Vapour Deposition (CVD)
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU]	Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
	CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck [EU]	Pulsating CVD
	CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]	Magnetic resonance imaging
	CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]	Metal organic chemical vapour deposition
	Der von dem indischen Hersteller eingeführte Rohstoff unterlag dem Regelzoll (5 % des Steuerwerts) und der Bildungsabgabe auf den Zoll (Customs Education Cess) (3 % des Regelzolls zuzüglich Betrag des Ausgleichszolls). [EU]	The raw material imported by the Indian producer was subject to the basic customs duty (5 % of assessable value) and the Customs Education Cess (3 % of the basic customs duty value plus the CVD amount).
	Die chinesische Regierung machte ferner geltend, dass die Vorgehensweise der Kommission gegen EU- und WTO-Recht verstoße und dass die Kommission entweder das Ausgleichszollverfahren einstellen oder den kooperierenden ausführenden Herstellern in den parallel laufenden Antidumpingverfahren MWB gewähren sollte. [EU]	GOC also submitted that that the practice of the Commission is in violation of EU and WTO law and that the Commission should either terminate the CVD proceedings or grant MET to the co-operating exporting producers in the parallel anti-dumping proceedings.
	Die daraufhin vorgeschlagene Aufhebung der Antidumping- und Ausgleichsmaßnahmen gegenüber den Einfuhren aus Norwegen wurde im Dezember 2002 angekündigt, und die Maßnahmen wurden im Mai 2003 aufgehoben. [EU]	The proposed termination of the AD and CVD measures against imports from Norway was then announced in December 2002 and those measures were terminated in May 2003.
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