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1B226 Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Ionenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von größer/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind. [EU] 1B226 Electromagnetic isotope separators designed for, or equipped with, single or multiple ion sources capable of providing a total ion beam current of 50 mA or greater.

Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser" strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

Ausrüstung für die Zusammenführung von Strahlen negativ geladener Ionen (negative ion beam funnelling equipment) [EU] Negative ion beam funnelling equipment

Ausrüstung zur Steuerung und Schwenkung eines energiereichen Ionenstrahls [EU] Equipment for controlling and slewing a high energy ion beam

Beim PVD-Beschichten mittels ionenunterstützter Widerstandsheizung werden Heizquellen mit elektrischem Widerstand in Kombination mit auftreffendem(n) Ionenstrahl(en) verwendet, mit dem ein kontrollierter und gleichmäßiger Fluss aus verdampftem Beschichtungsmaterial erzeugt wird. [EU] Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species.

Einzel- oder Mehrfach-Ionenquellen, die eine Strahlquelle enthalten, Ionisierer und Strahlbeschleuniger, hergestellt aus geeigneten Materialien (z. B. Grafit, Edelstahl oder Kupfer) und geeignet zur Erzeugung eines Gesamtionenstroms größer/gleich 50 mA [EU] Ion sources, single or multiple, consisting of a vapour source, ioniser, and beam accelerator made of suitable non-magnetic materials (e.g. graphite, stainless steel, or copper) and capable of providing a total ion beam current of 50 mA or greater

Fräsmaschinen mit fokussiertem Ionenstrahl für die Erzeugung und Reparatur von Masken und Reticles mit Mustern auf Halbleiterbauelementen [EU] Focused ion beam milling machines for producing or repairing masks and reticles for patterns on semiconductor devices

i. Ausrüstung für die Zusammenführung von Strahlen negativ geladener Ionen (negative ion beam funnelling equipment) [EU] i. Negative ion beam funnelling equipment

Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Ionenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von größer/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind. [EU] Electromagnetic isotope separators designed for, or equipped with, single or multiple ion sources capable of providing a total ion beam current of 50 mA or greater.

Verwendung von abgelenkten, fokussierten Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen und [EU] Using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and [listen]

Werkzeugmaschinen zum Abtragen von Stoffen aller Art durch elektrochemische Verfahren oder Elektronenstrahl, Ionenstrahl oder Plasmastrahl (ausg. Löt- und Schweißmaschinen, Materialprüfmaschinen und Apparate für die Trockenätzung von Mustern auf Halbleitermaterialien) [EU] Machine-tools for working any material by removal of material, operated by electro-chemical processes or electron beam, ion beam or plasma arc processes (excl. for soldering and welding machines, materials testing machines and apparatus for-dry etching semiconductor materials)

The example sentences [G] were kindly provided by the Goethe Institute.
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