vapour deposition : Dictionary / Wörterbuch (BEOLINGUS, TU Chemnitz)

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Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung. [EU]

Note: 2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.

Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Halbleiterscheiben (wafers) (CVD-Verfahren) [EU]

Apparatus for chemical vapour deposition on semiconductor wafers

Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (CVD-Verfahren) [EU]

Apparatus for chemical vapour deposition on LCD substrates

Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) [EU]

Apparatus for chemical vapour deposition on liquid crystal devices (LCD) substrates

Apparate und Vorrichtungen zum physikalischen Beschichten von Halbleiterscheiben (wafers) mittels Elektronenstrahl oder durch Aufdampfen [EU]

Apparatus for physical vapour deposition by electronic beam or evaporation on semiconductor wafers

Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase (VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate [EU]

Equipment for the vapour deposition of elements or compounds on heated filament substrates

Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern [EU]

Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres

Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern [EU]

Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres

Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]

Plasma enhanced chemical vapour deposition (CVD) equipment as follows:

B)1. PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) [EU]

Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)

B)3. PVD-Beschichten: "Laser"-Verdampfung [EU]

Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporisation

B)3. PVD-Beschichten: "Laser"-Verdampfung [EU]

Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization

Bei der wird (anstelle des herkömmlichen Verfahrens der plasmaunterstützten CVD-Abscheidung, des sog. PECVD-Verfahrens) ein innovatives Verfahren [...] verwendet. [EU]

The [...] uses an innovative [...] (instead of the traditional 'plasma enhanced chemical vapour deposition', PECVD process).

Chemical vapour deposition (Chemische Beschichtung aus der Gasphase) [EU]

Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU]

Chemical reaction by isotope selective laser activation CVD

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU]

Chemical warfare CW (for lasers)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) [EU]

EB-PVD electron beam physical vapour deposition EBU

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]

Chemical Vapour Deposition (CVD)

Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU]

Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.

CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]

Magnetic resonance imaging

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