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CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU] Metal organic chemical vapour deposition

Dies schließt Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen. [EU] This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.

durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) "substrate blanks" produced by the chemical vapour deposition process and having any of the following:

Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) "substrate blanks" produced by the chemical vapour deposition process, having any of the following:

Electron beam physical vapour deposition (Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen) [EU] Electron beam physical vapour deposition

Entfernungsmesseinrichtung (distance measuring equipment) [EU] EB-PVD electron beam physical vapour deposition

Gerät zum Aufdampfen von Parylen-Polymer zur Verwendung bei der Herstellung von mit Medikamenten beschichteten Stents [EU] Apparatus for vapour deposition of parylene for use in the manufacture of drug eluting stents [1]

Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition) [EU] Chemical vapour deposition (CVD) production equipment

Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: [EU] Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:

Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapor deposition) [EU] Physical vapour deposition (PVD) production equipment

Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over80 kW and having any of the following:

Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronenstrahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:

Hochvakuumverdampfung (CVD/PVD) [EU] Vapour deposition of metals

Internationale Zivilluftfahrt-Organisation (International Civil Aviation Organisation) [EU] MOCVD metal organic chemical vapour deposition MRI magnetic resonance imaging MTBF

Ionenunterstütztes PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung (PVD-Ionenplattieren) [EU] Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)

Laserangeregtes chemisches Verfahren (Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation) [EU] Chemical vapour deposition

Metal organic chemical vapour deposition (CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen) [EU] Metal organic chemical vapour deposition

Mikrowellenlandesystem (microwave landing systems) [EU] Metal organic chemical vapour deposition

MOCVD-(Metal-Organic-Chemical-Vapour-Deposition-) Reaktoren, besonders konstruiert für das Kristallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden [EU] Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004

Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), die nicht von Unternummer 2B005a erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-"Verbundwerkstoffen". [EU] Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.

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The example sentences [G] were kindly provided by the Goethe Institute.
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