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Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser" strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:

Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die Direktschreibverfahren verwenden, mit allen folgenden Eigenschaften: [EU] Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using direct writing methods, having all of the following:

Da das Gerät aus mehreren Komponenten wie lichtempfindlichen Zellen, integrierten Schaltkreisen und Glasfaserplatten mit Szintillatoren besteht, ist eine Einreihung in die Position 8541 als lichtempfindliches Halbleiterbauelement ausgeschlossen. [EU] As the device is composed of several components, such as light sensitive cells, integrated circuits and fibre optic plates with scintillators, classification under heading 8541 as a photosensitive semiconductor device is excluded.

The example sentences [G] were kindly provided by the Goethe Institute.
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