CVD : Dictionary / Wörterbuch (BEOLINGUS, TU Chemnitz)

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	Anmerkung 1:Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten. [EU]	Entiende por paquete un sustrato sumergido en una mezcla de polvos.
	Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) [EU]	Aparatos para la deposición química de vapor en sustratos para dispositivos de cristales líquidos
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern [EU]	Equipos para la deposición en fase de vapor mediante procedimiento químico, de elementos o de compuestos sobre sustratos filamentosos calentados para la fabricación de fibras de carburo de silicio
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern [EU]	Equipos para la deposición en fase de vapor mediante procedimiento químico de elementos o de compuestos, sobre sustratos filamentosos calentados, para la fabricación de fibras de carburo de silicio
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Equipos de "CVD" intensificado por plasma, según se indica:
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Equipos de deposición química en fase vapor ("CVD") asistida por plasma, según se indica:
	Bei der wird (anstelle des herkömmlichen Verfahrens der plasmaunterstützten CVD-Abscheidung, des sog. PECVD-Verfahrens) ein innovatives Verfahren [...] verwendet. [EU]	La [...] utiliza un procedimiento innovador para [...] (en lugar del procedimiento tradicional de deposición asistida por plasma CVD, el denominado procedimiento PECVD).
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]	Depósito en fase de vapor por métodos químicos («CVD»)
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]	Depósito químico en fase de vapor ()
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]	Depósito químico en fase de vapor ("CVD")
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU]	El depósito en fase de vapor por métodos químicos («CVD») es un proceso de revestimiento por recubrimiento o de revestimiento por modificación de superficie en el que un metal, aleación, "material compuesto" («composite»), material dieléctrico o material cerámico se deposita sobre un sustrato calentado.
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU]	El depósito químico en fase de vapor ("CVD") es un proceso de revestimiento por recubrimiento o de revestimiento por modificación de superficie en el que un metal, aleación, "material compuesto" ("composite"), material dieléctrico o material cerámico se deposita sobre un sustrato calentado.
	CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck [EU]	CVD pulsante
	CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck [EU]	Pulsante
	CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]	Formación de imágenes por resonancia magnética
	CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]	Tiempo medio hasta fallo
	Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU]	"Sustratos en bruto" de seleniuro de zinc (ZnSe) y sulfuro de zinc (ZnS) obtenidos mediante proceso de depósito en fase vapor por método químico que tengan cualquiera de las características siguientes:
	Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU]	"Sustratos en bruto" de seleniuro de zinc (ZnSe) y sulfuro de zinc (ZnS) obtenidos mediante un proceso de depósito químico en fase de vapor que tengan cualquiera de las características siguientes:
	durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU]	"Sustratos en bruto" de seleniuro de zinc (ZnSe) y sulfuro de zinc (ZnS) obtenidos mediante un proceso de depósito químico en fase de vapor y que tengan cualquiera de las características siguientes:
	Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition) [EU]	Equipos para el proceso de depósito químico mediante vapor (CVD)
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