CVD : Dictionary / Wörterbuch (BEOLINGUS, TU Chemnitz)

19 results for CVD

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	Anmerkung 1:Das CVD-Beschichten schließt folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerichtetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD-Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten. [EU]	Designação "deposição em fase vapor por processo químico" abrange os seguintes processos: deposição fora de caixa com fluxo de gás dirigido, CVD pulsante, deposição térmica com nucleação controlada (CNTD) e processos de deposição em fase vapor por processo químico activados ou assistidos por plasma.
	Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) [EU]	Aparelhos de deposição química em fase de vapor em substratos de dispositivos de cristais líquidos (LCD)
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern [EU]	Equipamentos para a deposição química de vapores de elementos ou de compostos em substratos filamentosos aquecidos, para o fabrico de fibras de carboneto de silício
	Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliziumkarbidfasern [EU]	Equipamentos para a deposição química de vapores de elementos ou de compostos em substratos filamentosos aquecidos, para o fabrico de fibras de carboneto de silício
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Equipamentos CVD enriquecidos com plasma:
	Ausrüstung für plasmaunterstützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: [EU]	Equipamentos Deposição em fase Vapor por Processo Químico (CVD) enriquecidos com plasma:
	Bei der wird (anstelle des herkömmlichen Verfahrens der plasmaunterstützten CVD-Abscheidung, des sog. PECVD-Verfahrens) ein innovatives Verfahren [...] verwendet. [EU]	A [...] utiliza um processo inovador [...] [em vez do tradicional processo de plasma enhanced chemical vapour deposition (deposição química em fase de vapor assistida por plasma), PECVD].
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) [EU]	Deposição em fase vapor por processo químico (CVD)
	Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein "Verbundwerkstoff", ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. [EU]	A deposição em fase vapor por processo químico (CVD) é um processo de revestimento por cobertura ou por modificação da superfície caracterizado pela deposição de um metal, liga, material "compósito", material dieléctrico ou material cerâmico num substrato aquecido.
	CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck [EU]	Deposição em fase vapor, por processo químico, pulsante
	CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) [EU]	Deposição de organometálicos em fase vapor por processo químico
	durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder Zinksulfid (ZnS) bedampfte "monolithische Substrate" mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU]	"Substratos em bruto" de selenieto de zinco (ZnSe) e de sulfureto de zinco (ZnS) obtidos por deposição em fase vapor por processo químico, com uma das seguintes características:
	Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapor deposition) [EU]	Equipamentos de produção para deposição em fase vapor por processo químico (CVD)
	Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigenschaften: [EU]	Equipamentos de produção para deposição em fase vapor por processo químico (CVD) com todas as seguintes características:
	Hochvakuumverdampfung (CVD/PVD) [EU]	Depósito no vácuo (CVD/PVD)
	Metal organic chemical vapour deposition (CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen) [EU]	Metal organic chemical vapour deposition (deposição de organometálicos em fase vapor por processo químico)
	Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), die nicht von Unternummer 2B005a erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-"Verbundwerkstoffen". [EU]	Fornos para deposição em fase vapor por processo químico (CVD) diferentes das referidas em 2B005.a. concebidos ou modificados para a densificação de materiais compósitos carbono–;carbono.
	plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten und [EU]	Deposição em fase vapor, por processo químico, activada ou assistida por plasma; e
	Teile und Zubehör für Apparate und Vorrichtungen zum Beschichten von Trägermaterialien für Flüssigkristallanzeigen (LCD) durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) [EU]	Partes e acessórios de aparelhos de deposição química em fase de vapor em substratos de dispositivos de cristais líquidos (LCD)
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