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Abblendscheinwerfer mit einer Lichtquelle bzw. Lichtquellen zur Erzeugung des Hauptabblendlichtbündels (gemäß der Begriffsbestimmung in Regelung Nr. 48), deren Soll-Lichtstrom 2000 Lumen übersteigt, sind nicht zulässig. [EU] São proibidos os faróis com feixes de cruzamento com fontes de luz que produzam o feixe de cruzamento principal (conforme definido no Regulamento n.o 48) e que possuam um fluxo luminoso objectivo total superior a 2000 lúmenes.

(Absatz 6.3 gilt nicht für Scheinwerfer, nur für Abblendlicht.) [EU] Contudo, a parte horizontal do traço não deve estender-se para além da linha hh (não é aplicável o disposto no ponto 6.3. a faróis destinados a cumprir as prescrições do presente regulamento unicamente no que respeita a feixes de cruzamento).

"Abstellgleis" Gleise, die speziell für das zeitweilige Parken von Schienenfahrzeugen zwischen zwei Zuweisungen bestimmt sind [EU] «Feixes de resguardo», ramais especificamente destinados ao estacionamento temporário dos veículos ferroviários entre dois serviços

"Adaptives Frontbeleuchtungssystem (AFS)" (bzw. "System") ist eine nach der Regelung Nr. 123 typgenehmigte Beleuchtungseinrichtung, die Lichtbündel mit unterschiedlichen Eigenschaften für die automatische Anpassung an verschiedene Anwendungsbedingungen des Abblendlichts und gegebenenfalls des Fernlichts. [EU] «Sistema de iluminação frontal adaptável» (ou «AFS»), um dispositivo de iluminação homologado de acordo com o Regulamento n.o 123, que fornece feixes com características diferentes para a adaptação automática às condições variáveis de utilização do feixe de cruzamento (médios) e, se aplicável, do feixe de estrada (máximos).

alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 µC/mm2 [EU] Todas as resinas concebidas para utilização com feixes de electrões ou iões, com uma sensibilidade igual ou superior a 0,01 µcolomb/mm2

alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 μ;Cb/mm2 [EU] Todas as resinas concebidas para utilização com feixes de electrões ou iões, com uma sensibilidade igual ou superior a 0,01 μ;coulomb/mm2

alle Fotoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elektronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich 0,01 μ;C/mm2 [EU] Todas as resinas concebidas para utilização com feixes de electrões ou iões, com uma sensibilidade igual ou superior a 0,01 μ;coulomb/mm2

Andere Geräte zum Schließen, Unterbrechen, Schützen oder Verbinden von elektrischen Stromkreisen, für eine Spannung <= 1000 V [EU] Conectores para fibras ópticas, feixes ou cabos de fibras; estações de teste de bolachas (wafers) semicondutores; outros aparelhos para interrupção, seccionamento, protecção, derivação, ligação ou conexão de circuitos eléctricos, tensão ; 1000 V

Andere Geräte zum Schließen, Unterbrechen, Schützen oder Verbinden von elektrischen Stromkreisen, für eine Spannung ; 1000 V [EU] Conetores para fibras óticas, feixes ou cabos de fibras; estações de teste de bolachas (wafers), semicondutores; outros aparelhos para interrupção, seccionamento, proteção, derivação, ligação ou conexão de circuitos elétricos, tensão ; 1000 V

Andere optische Fasern sowie Bündel und Kabel aus optischen Fasern (ganze Bündel für Lichtfasern in einer Umhüllung) [EU] Outras fibras ópticas ou feixes e cabos de fibras ópticas

Anlage 2: Schema oder Zeichnung der allgemeinen Anordnung der elektrischen und/oder elektronischen Bauteile (die unter diese Regelung fallen) und der allgemeinen Anordnung der Kabel. [EU] Apêndice 2: Esquemas ou desenho da disposição geral dos componentes elétricos e/ou eletrónicos (abrangidos pelo presente regulamento) e da disposição geral dos feixes de cabos.

Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenherstellung oder die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrahlen, Ionenstrahlen oder "Laser"strahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: [EU] Equipamentos especialmente concebidos para a realização de máscaras ou para o tratamento de dispositivos de semicondutores através de feixes de electrões, iões ou laser focados e reflectidos, com uma das seguintes características:

Anmerkung 2: Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. [EU] 2 Para activar a deposição podem ser utilizados feixes iónicos de baixa energia (inferior a 5 keV).

Anmerkung 2:Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. [EU] Activar a deposição podem ser utilizados feixes iónicos de baixa energia (inferior a 5 keV).

Anmerkung: Unternummer 3A201c erfasst nicht Beschleuniger als Bestandteile von Geräten, die für die Anwendungsgebiete außerhalb der Elektronen- oder Röntgenbestrahlung (z. B. Elektronenmikroskopie) oder für medizinische Zwecke entwickelt wurden. [EU] Nota: 3A201.C. não abrange os aceleradores que são componentes de dispositivos concebidos para fins que não abrangem feixes electrónicos ou radiação de raios X (microscopia electrónica, por exemplo) nem os concebidos para fins médicos:

Auf der Lichtaustrittsfläche aller Scheinwerfer kann entsprechend der Darstellung in Anhang 6 ein Bezugspunkt markiert sein. [EU] Todos os feixes devem apresentar na respectiva superfície emissora de luz um centro de referência como o que figura no anexo 6.

Ausrüstung für die Zusammenführung von Strahlen negativ geladener Ionen (negative ion beam funnelling equipment) [EU] Equipamento de focagem de feixes de iões negativos

Ausrüstung zur Diagnose von Strahlführungs-Winkelfehlern kleiner/gleich 10 μ;rad an "Super-High Power Lasern""SHPL" [EU] Equipamentos de diagnóstico com laser capazes de medir erros de direccionamento angular de feixes de sistemas "SHPL" iguais ou inferiores a 10 μ;rad

Ausrüstung zur Steuerung und Schwenkung eines energiereichen Ionenstrahls [EU] Equipamento de focagem de feixes de iões negativos

Ausrüstung zur Steuerung und Schwenkung eines energiereichen Ionenstrahls [EU] Equipamento para controlo e orientação de feixes de iões de alta energia

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